產(chǎn)品：布魯克D8達(dá)芬奇X射線衍射儀
型號(hào)：D8Advance
產(chǎn)地：德國
布魯克AXS公司全新的D8ADVANCEX射線衍射儀,采用創(chuàng)造性的達(dá)芬奇設(shè)計(jì),通過TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì),成功實(shí)現(xiàn)了BB聚焦幾何下的定性定量分析和平行光幾何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自動(dòng)切換,而無需對(duì)光。通過革命性的TWISTTUBE技術(shù),使用戶可以在1分鐘內(nèi)完成從線光源應(yīng)用(常規(guī)粉末的定性定量分析、薄膜的GID、XRR)到點(diǎn)光源應(yīng)用(織構(gòu)、應(yīng)力、微區(qū))的切換,讓煩人的光路互換、重新對(duì)光等問題從此成為歷史!
高精度的測(cè)角儀可以保證在全譜范圍內(nèi)的每一個(gè)衍射峰(注意不是一個(gè)衍射峰)的測(cè)量峰位和標(biāo)準(zhǔn)峰位的誤差不超過0.01度,布魯克AXS公司提供保證!
*的林克斯陣列探測(cè)器可以提高強(qiáng)度150倍,不僅答復(fù)提高設(shè)備的使用效率,而且大幅提高了設(shè)備的探測(cè)靈敏度。
主要應(yīng)用：
1、物相定性分析
2、結(jié)晶度及非晶相含量分析
3、結(jié)構(gòu)精修及解析
4、物相定量分析
5、點(diǎn)陣參數(shù)精確測(cè)量
6、無標(biāo)樣定量分析
7、微觀應(yīng)變分析
8、晶粒尺寸分析
9、原位分析
10、殘余應(yīng)力
11、低角度介孔材料測(cè)量
12、織構(gòu)及ODF分析
13、薄膜掠入射
14、薄膜反射率測(cè)量
15、小角散射
技術(shù)指標(biāo):
Theta/theta立式測(cè)角儀
2Theta角度范圍:-110～168°
角度精度:0.0001度
Cr/Co/Cu靶,標(biāo)準(zhǔn)尺寸光管
探測(cè)器:林克斯陣列探測(cè)器、林克斯XE陣列探測(cè)器
儀器尺寸:1868x1300x1135mm
重量:770kg
TWIN / TWIN 光路
布魯克獲得專屬發(fā)明的TWIN-TWIN光路設(shè)計(jì)極大地簡化了D8 ADVANCE的操作，使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統(tǒng)可在4種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。該系統(tǒng)無需人工干預(yù)，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進(jìn)行切換，且無需人工干預(yù)，是在環(huán)境下和非環(huán)境下對(duì)包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在內(nèi)的所有類型的樣品進(jìn)行分析的理想選擇。
動(dòng)態(tài)光束優(yōu)化（DBO）
布魯克獨(dú)_有的DBO功能為X射線衍射的數(shù)據(jù)質(zhì)量樹立了全新的重要基準(zhǔn)。馬達(dá)驅(qū)動(dòng)發(fā)散狹縫、防散射屏和可變探測(cè)器窗口的自動(dòng)同步功能，可為您提供無可_替代的數(shù)據(jù)質(zhì)量——尤其是在低2?角度時(shí)。除此之外，LYNXEYE全系列探測(cè)器均支持DBO：SSD160-2，LYNXEYE-2和LYNXEYE XE-T。
LYNXEYE XE-T
LYNXEYE XE-T是LYNXEYE系列探測(cè)器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上只有這一個(gè)一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測(cè)器，適用于所有波長（從Cr到Ag），具有頂點(diǎn)的計(jì)數(shù)率和更好的角分辨率，是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。
LYNXEYE XE-T具有優(yōu)于380 eV的能量分辨率，著實(shí)出色，是市面上性能更好的熒光過濾器探測(cè)器系統(tǒng)。借助它，您可在零強(qiáng)度損失下對(duì)由激發(fā)的鐵熒光進(jìn)行100％過濾，而且無需金屬濾波片，因此數(shù)據(jù)也不會(huì)存在偽影，如殘余K?和吸收邊。同樣，也無需用到會(huì)除去強(qiáng)度的二級(jí)單色器。
XRPD方法：
· 鑒別晶相和非晶相，并測(cè)定樣品純度
· 對(duì)多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析
· 微觀結(jié)構(gòu)分析（微晶尺寸、微應(yīng)變、無序…）
· 熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力
· 織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析
· 指標(biāo)化、從頭晶體結(jié)構(gòu)測(cè)定和晶體結(jié)構(gòu)精修
對(duì)分布函數(shù)分析
對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術(shù)，它基于Bragg以及漫散射（“總散射"），提供無序材料的結(jié)構(gòu)信息。其中，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息（即長程有序），通過漫散射，表征其局部結(jié)構(gòu)（即短程有序）。
就分析速度、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對(duì)非晶、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言，D8 ADVANCE和TOPAS軟件替代了市面上性能更好的PDF分析解決方案：
· 相鑒定
· 結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修
· 納米粒度和形狀
薄膜和涂層
薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度操控功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí)，著重對(duì)厚度在nm和µm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）。
D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：
· 掠入射衍射
· X射線反射法
· 高分辨率X射線衍射
· 倒易空間掃描
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產(chǎn)品簡介
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